光源全固态射频发生器
光学系统中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构
进样系统可拆卸式或一体式炬管
器大面积背照式CCD器
品牌钢研纳克
ICP-OES和ICPMS精密度不同：
ICP-MS的短期精密度一般是1～3% RSD，这是应用多内标法在常规工作中得到的。长期(几个小时)精密度为小于5%RSD。使用同位素稀释法可以得到很好的准确度和精密度，但这个方法的费用对常规分析来讲是太贵了。
ICP-OES的短期精密度一般为0.3～2%RSD，几个小时的长期精密度小于3%RSD。
起草的标准情况：
钆镁合金中稀土与非稀土杂质AlCuCaFeSiNi的测定。 2009年
钆铁合金中非稀土元素AlCaMgMn的测定。 2010年
镨钕镝合金中稀土与非稀土杂质以及配分测定。（起草）
钕铁硼废渣中稀土与非稀土杂质测定以及配分测定。（进行到二验，标准未公布）。
硬件设备目前国际采用的主流技术为全固态光源和中阶梯光栅二维分光系统，少部分采用电子管作为功放的射频光源和一维分光技术。单道扫描的ICP仪器还有一定的市场占有率和保有量，在特殊行业（如稀土）具有**的作用。
ICP-AES发展趋势：
1、 仪器小型化，台式机。（光源小型化、光室小型化）
2、 波长范围的拓宽。
3、 光学分辨率的提高。
4、 光源的稳定性及减少氩气消耗的新技术。
5、 更加高效稳定的进样系统。
6、 软件更加方便、智能。功能更加强大。
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