国产ICP的优点 山东ICP光谱分析仪

Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体发射光谱仪测定工业硅中杂质元素含量
关键词
Plasma 3000，Plasma 2000，工业硅，耐氢氟酸进样系统
国家产品标准GB/T2881-2014《工业硅》中规定，工业硅中杂质元素采用电感耦合等离子体发射光谱仪测定。本实验参照标准GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法*四部分：杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》测定工业硅中铝、铬、钙、硼、铜、铁、镁、镍、锰、磷、钠、钛的元素含量。对工业硅样品进行对比测试，结果与客户化学法基本一致。
仪器特点
Plasma 3000型和Plasma 2000型电感耦合等离子体发射光谱仪（钢研纳克技术股份有限公司）是使用方便、操作简单、测试快速的全谱ICP-OES分析仪，具有良好的分析精度和稳定性。
Plasma3000
Ø 固态射频发生器，**高稳定光源；
Ø 大面积背照式CCD芯片，宽动态范围；
Ø 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，体积小巧；
Ø 多元素同时分析，全谱瞬态直读。
Ø 多种进样系统，可选择性好；
Ø 垂直炬管，双向观测，检出限更加理想；
Plasma2000
Ø 固态射频发生器，**高稳定光源；
Ø 大面积背照式CCD芯片，宽动态范围；
Ø 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，体积小巧；
Ø 多元素同时分析，全谱瞬态直读；
Ø 多种进样系统，可选择性好；
Ø 垂直炬管水平观测，耐盐性更佳。
样品前处理
1. Al、Ca、Cr、Cu、Fe、Mg、Ni、Mn、P、Na、Ti含量测定：
Ø 称取1g样品，放置于250mL聚四氟乙烯烧杯，用少许水清洗杯壁并润湿样品；
Ø 分次加入15mL～20mL氢氟酸，待反应停止后加滴加硝酸至样品完全溶解，然后加入3mL，加热冒烟，待白烟冒尽，取下冷却。
Ø 加入5mL盐酸和1mL硝酸，用少许水洗杯壁，加热使残渣完全溶解，冷却至室温，转移至50mL塑料容量瓶中，用水稀释至刻度，摇匀；
Ø 随同做空白实验。
2. B含量测定
Ø 称取1g样品，放置于250mL聚四氟乙烯烧杯，用少许水清洗杯壁并润湿样品；
Ø 分次加入15mL～20mL氢氟酸，待反应停止后，滴加硝酸至样品完全溶解，过量1mL，待反应停止后，加热至近干（控制温度低于140℃），取下冷却；
Ø 加入5mL盐酸和1mL硝酸低温溶解残渣（温度低于80℃），待样品完全溶解后，冷却至室温，转移至50mL塑料容量瓶中，用水稀释至刻度，摇匀。
Ø 随同做空白实验。
注：
1) 工业硅中有些元素含量，使用试剂和水需要高纯，器皿清洁；
2) 标准溶液配置时注意介质干扰，建议P、Na、B单配置；
3) 测量时，采用耐氢氟酸进样系统；
4) 样品溶解时，氢氟酸用量较大，注意器皿采用聚四氟乙烯和塑料；
标准曲线配置
标准溶液配置时，可以先配置100μg/mL混合标准溶液，配置时按下表1加入体积数配置曲线。
表1 标准曲线配置
注：
1) 标准溶液配置时注意介质干扰，建议P、Na、B单配置，浓度梯度同上表；
2) 配置曲线时，酸度和样品保持一致；
元素分析谱线
实验考虑各待测元素谱线之间的干扰及基体干扰，并选择合适的扣背景位置，经实验，本文选择分析谱线如下表2所示。
表2 各元素分析谱线及线性系数
测试结果
1. 标准样品测试结果、精密度与回收率
按照方法，测试了标准样品金属硅FjyJ0401，同时加入100微克做回收率实验，实验结果如表3所示。回收率在98.75%～106.93%，结果令人满意。
表3 实验结果、精密度和回收率(n=11)
2. 样品比对实验
采用Plasma2000型和Plasma3000型仪器测量客户考察样品，与客户化学法比对，结果如表4所示。通过比对，仪器测定值与化学法基本一致。
表4 结果比对
注：“-” 客户未提供化学法数据
结论
使用Plasma3000和Plasma2000能够很好的解决工业硅中杂质元素分析问题，完全满足国家标准GB/T2881-2014《工业硅》和GB/T14849.4-2014《工业硅化学分析方法*四部分：杂质元素含量测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》要求。

钢研纳克拟负责起草ICP-AES国家标准
仪器信息网 2014/10/31
钢研纳克拟负责起草《电感耦合等离子体发射光谱仪》国家标准
仪器信息网讯 2014年10月28日，国家标准委决定发布通知对2014年*二批拟立项国家标准项目(见附件)公开征求意见。其中提出将制定《电感耦合等离子体发射光谱仪》国家推荐标准。主管部门为中国机械工业联合会，归口单位为国工业过程测量和控制标准化技术会，起草单位为钢研纳克技术有限公司，计划完成时间为2016年。
《电感耦合等离子体发射光谱仪》标准将规定电感耦合等离子体原子发射光谱仪的术语与缩略语、分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。
据介绍，制定该标准旨在提升我国ICP光谱仪的生产制造规范性，使仪器性能稳定;通过规范生产提高ICP光谱仪生产企业准入门槛，形成具有竞争力的企业。从而缩小国产仪器同国外仪器的性能差距，提高国产ICP光谱仪的市场占有率。对ICP光谱仪产业发展具有重要和积极的意义。
项目起草单位钢研纳克技术有限公司研发生产电感耦合等离子体发射光谱仪始于2006年，2009年10月，钢研纳克开发了单道扫描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，钢研纳克推出了 Plasma2000型全谱电感耦合等离子体光谱仪，采用中阶梯光栅光学结构和科研级CCD器实现全谱采集，该仪器是钢研纳克“国家重大科学仪器设备开发专项”成果。

钢研纳克 Plasma2000 全谱ICP光谱仪
Plasma2000电感耦合等离子体发射光谱仪是钢研纳克在首批“国家重大科学仪器设备开发专项”支持下研发的二维全谱高分辨ICP光谱仪，是国产全谱ICP光谱仪革命性产品，曾斩获中国仪器仪表行业协会“自主创新金奖”等一系列荣誉，在业界获得广泛的**。美观精致的高颜值工业设计，优异稳定的测试性能源于纳克近四十年ICP行业经验。Plasma2000拥有
1、中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，径向观测，具有稳健的能力。
2、 稳定的自激式固态射频发生器，体积小巧，匹配速度快，确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。
3、 高速面阵CCD采集技术，单次曝光获取全部谱线信息，真正实现“全谱直读”。
4、 功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程，为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。
可广泛应用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。

钢研纳克Plasma 1000 单道扫描ICP光谱仪仪器特点：
1.   分析流程全自动化控制，实现软件点火、气路智能控制功能；
2.   输出功率自动匹配调谐，功率参数程序设定；      
3.   优良的光学系统，的控制系统，保证峰位定位准确，信背比优良；
4.   较小的基体效应；      
5.   测量范围宽，**微量到常量的分析，动态线性范围5—6个数量级；
6.   检出限低，大多数元素的检出限可达ppb级；
7.   良好的测量精度，稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%（5ppm），优于标准（JJG768-2005）；
8.   Rf输出功率的范围750-1500W，输出功率稳定性小于0.1%；
9.   光电倍增管的负高压可在0-1000V范围内立可调，可根据不同元素的不同谱线单设置条件，和全谱仪器比较有更好的检出限；
10. 纳克仪器采用高屏蔽和良好接地保证操作者的安全；
11. 高精度的光室恒温系统，保证仪器优良的长短期精度；
12. 多通道蠕动泵进样，保证仪器进样均匀，工作稳定；
13. 使用钹铜弹片和处理的屏蔽玻璃，在吸收紫外线同时使仪器小于2V/m（JJG768-2005规定小于10V/m）。
14. 具有较高的谱线分辨率，能分出Hg31*4和313.183nm双线谱线，能分出铁的四重峰。
15. 人性化的软件设计，操作方便，免费升级。功能强大、友好的人机界面分析软件,可在测定过程中，进行数据处理，方法编制和结果分析，是真正的多任务工作软件；该软件数据处理功能强大，提供了多种方法，如内标校正、IECS和QC监测功能等，可获得的背景扣除点以消除干扰；对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告。
http://xjr003.cn.b2b168.com