常用电感耦合等离子体质谱 国产ICP-MS
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产品描述

测试范围2-255amu 功率600-1600W连续可调 测量精度0.5-1.1amu连续可调 型号PlasmaMS 300 矩管材质石英 生产厂家钢研纳克
**SMAMS 300 在不**业的应用与干扰
地质样品通常难以消解。相比之下,激光消融几乎不需要任何样品制备,仅仅 需要将样品切至适合激光消融池的大小。
在这一领域中,样品多种多样,质谱分布范围很广,因此此类应用为广泛和复杂。在单 个矿物或样品(minerals or phases)中,可能既需要分析痕量金属含量,又需要进行同位 素信息扫描。
由于在这类样品中存在着大量的稀土元素(rare earth elements),因此在这类地质样品中 常见的干扰就是氧化物干扰和双电荷干扰。
应用领域:
岩石稀土分析和岩石消解 激光消融分析矿物
同位素比例研究地球及外来物质的原始和进化 水沉积物和地下水
常用电感耦合等离子体质谱
PlasmaMS的质谱干扰消除办法
PlasmaMS 300的另一类主要干扰是质谱干扰。
1.多原子干扰(Polyatomic) – 与目标同位素原子质量重合的多原子离子,所带来的干扰
2. 同量异位素干扰(Isobaric) –与目标同位素原子具有相同质量数的原子带来的干扰(目标 原子与干扰原子的质子数和中子数都不同,但(质子数+中子数)相同);也包括质荷比相等 的不同元素离子形成的干扰。
多原子离子: 包括氩化合物、氢化物、氧化物
氩化合物的产率可以通过性能选项来降低:例如使用等离子体屏蔽环(PlasmaScreen)和 碰撞反应池(CCT, Collision Cell Technology)。
这些干扰有时是气体引起的:例如进样时候引入的空气、用来维持等离子体燃烧的氩气。 还有的来自于样品基体中的阴离子或者阳离子。
氧化物的产率可以通过调谐来降低:炬管和雾化器的位置、气体流速对氧化物产率的影响 是的。基体引起的干扰很多都是氧化物,尤其是样品中的主量元素,会在距离主量元 素16个amu的位置产生一个氧化物的干扰峰。这样的干扰普遍存在,并且随着基体氧化 物沸点的升高,这样的干扰更加严重。我们可以使用空白扣减来降低这样的干扰。
同量异位素干扰: 这种干扰指的是,存在着和目标元素原子质量相同的干扰离子。要消除同量异位素干扰, 只能是尽可能选择该元素的其它同位素来回避这样的干扰。
还有一类的同质量干扰,如果干扰元素的二级电离电位(Isobaric  interference)低于了 氩原子的一级电离电位(15.8ev),这样的元素原子在ICP中会形成双电荷离子。对于双电 荷离子的干扰,很难消除,但有的时候可以通过调谐来将干扰降低一些。如果可以的话, 通过更换更合适的同位素来解决。
如果用户的目标元素是单同位素元素时,例如As,此时就不能采用更换同位素的办法来 避免干扰。As元素是比较典型的单同位素元素,同时面临着普遍的多原子干扰(40Ar 35Cl),一旦有氯元素的存在,就存在40Ar 35Cl的干扰。
常用电感耦合等离子体质谱
PlasmaMS 300仪器组成与工作原理
ICP-MS全称电感耦合等离子体质谱(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)主要包括以下功能模块:进样系统、ICP离子源、接口单元、离子传输系统、杆质量分析系统、离子及和数据采集系统、真空系统、整机控制系统与软件系统。
图2.1  PlasmaMS 300型结构示意图
其工作原理是:待测样品通过进样系统进入离子源部分,在被 ICP射频电源离子化后,在接口及离子传输系统中通过聚焦、消除干扰后进入四较杆质量分析器,在其中离子将按照质荷比(m/z)大小被分开,经过聚焦后,达到器。器将不同质荷比的离子流通过接收、测量及数据处理转换成电信号经放大、处理后得到分析结果。
2.2 主机部件
仪器主机的主要部件有:进样系统、ICP离子源、接口单元、离子传输系统、杆质量分析系统、离子及和数据采集系统、真空系统、整机控制系统与软件系统。
进样系统包含蠕动泵、进样管排样、雾化器、雾室、玻璃弯管、炬管;
ICP离子源包括包含功放箱、匹配箱;
接口单元包括接口、水腔、提取透镜;
离子传输系统包括π透镜、碰撞反应池、透镜组;
杆质量分析系统包括杆、馈入件;
离子及数据采集系统主要包括电子倍增器、电子倍增器支架;
真空系统包括机械泵、2个分子泵、真空腔体、潘宁规;
整机控制系统包含各种控制电路模块。
2.3 装置
智能温控冷却循环水箱是重要的装置,它冷却接口、线圈、离子源和分子泵。
稳压电源是能为负载提供稳定交流电的电子装置。当电网电压或负载出现瞬间波动时,稳压电源会以10ms~30ms的响应速度对电压幅值进行补偿,使其稳定在±2%以内。
常用电感耦合等离子体质谱
公司主要技术和产品的创新历程
公司是我国金属材料领域的**者。基于原钢研院自 1954 年以来在金 属材料和冶金工艺分析测试领域的技术积淀,公司于 2001 年成立,已逐步搭建 起强大的技术创新体系。公司自成立以来一直面向国家重*程及重点项目需 求,不断开发新技术、新标准、新产品,屡次解决国家及行业在金属技术及 仪器装备领域的瓶颈,不断实现重大技术突破,解决“卡脖子”问题,**国内金 属和分析仪器的技术进步与创新。 凭借完善的创新体系和持续创新能力,公司目前拥有了在金属材料领域 的、表征、评价和认证服务能力,同时开发出一系列具有完全自主知识 产权和**性的仪器产品。
公司分析仪器可分为原子光谱、X 射线荧光光谱、气体元素分析、质谱、 力学、无损探伤及环境监测类,产品类型丰富,目前共有 40 多种产品型号, 覆盖金属材料、环境监测、食品药品等应用领域。
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