icp aes光谱仪 ICP光谱的方法

钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统
Plasma 3000ICP光谱仪采用径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。 优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 包围式立体控温系统，**光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器，稳定，体积小巧，效率高，匹配速度快，钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪能适应各种复杂基体样品及挥发性的测试，均能获得优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。 冷锥消除尾焰技术，地降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景，保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计，快速定位，的位置重现。 实时仪器运行参数，高性能CAN工业现场总线，**通讯可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，的位置重现。钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪配备系列经过优化的进样系统，可用于、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸（HF） 等样品的测试。
使用可拆卸式或一体式炬管，易于维护，转换快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、气和载气的流量，**测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。
器
大面积背照式CCD器,全谱段响应，高紫外**化效率，抗饱和溢出，具有较宽的动态范 围和较快的信号处理速度。 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。Plasma 3000 ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸，**像素，单像素面积24μm X 24μm，半导体制冷,制冷温 度 低，具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发， 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽，减少电磁 连锁门保护，避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗

ICP光谱仪即电感耦合等离子体光谱仪，ICP发射光谱法是根据处于激发态的待测元素原子回到基态时发射的特征谱线对待测元素进行分析的方法。ICP发射光谱仪主要应用于无机元素的定性及定量分析。
与其他类型的光谱仪相比，ICP光谱仪具有以下优点：
1. 多元素同时检出能力。可同时一个样品中的多种元素。一个样品一经激发，样品中各元素都各自发射出其特征谱线，可以进行分别而同时测定多种元素。
2. 分析速度快。试样多数不需经过化学处理就可分析，且固体、液体试样均可直接分析，同时还可多元素同时测定，若用光电直读光谱仪，则可在几分钟内同时作几十个元素的定量测定。
3. 选择性好。由于光谱的特征性强，所以对于一些化学性质较相似的元素的分析具有特别重要的意义。如铌和钽、铣和铪、十几种稀土元素的分析用其他方法都很困难，而对aes来说是毫无困难之举。
4. 检出限低。一般可达0.1～1ug·g-1，值可达10-8～10-9g。用电感耦合等离子体(icp)新光源，检出限可低至 数量级。
5. 用icp光源时，准确度高，标准曲线的线性范围宽，可达4～6个数量级。可同时测定高、中、低含量的不同元素。因此icp-aes已广泛应用于各个领域之中。
6. 样品消耗少，适于整批样品的多组分测定，尤其是定性分析更显示出特的优势。

ICP光谱仪 的气体控制系统是否稳定正常地运行，直接影响到仪器测定数据的好坏，如果气路中有水珠、机械杂物杂屑等都会造成气流不稳定，因此，对气体控制系统要经常进行检查和维护。首先要做气体试验，打开气体控制系统的电源开关，使电磁阀处于工作状态，然后开启气瓶及减压阀，使气体压力指示在额定值上，然后关闭气瓶，观察减压阀上的压力表指针，应在几个小时内没有下降或下降很少，否则气路中有漏气现象，需要检查和排除。*二，由于氩气中常夹杂有水分和其它杂质，管道和接头中也会有一些机械碎屑脱落，造成气路不畅通。因此，需要定期进行清理，拔下某些区段管道，然后打开气瓶，短促地放一段时间的气体，将管道中的水珠，尘粒等吹出。在安装气体管道，特别是将载气管路接在雾化器上时，要注意不要让管子弯曲太厉害，否则载气流量不稳而造成脉动，影响测定。

钢研纳克拟负责起草ICP-AES国家标准
仪器信息网 2014/10/31
钢研纳克拟负责起草《电感耦合等离子体发射光谱仪》国家标准
仪器信息网讯 2014年10月28日，国家标准委决定发布通知对2014年*二批拟立项国家标准项目(见附件)公开征求意见。其中提出将制定《电感耦合等离子体发射光谱仪》国家推荐标准。主管部门为中国机械工业联合会，归口单位为国工业过程测量和控制标准化技术会，起草单位为钢研纳克技术有限公司，计划完成时间为2016年。
《电感耦合等离子体发射光谱仪》标准将规定电感耦合等离子体原子发射光谱仪的术语与缩略语、分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。
据介绍，制定该标准旨在提升我国ICP光谱仪的生产制造规范性，使仪器性能稳定;通过规范生产提高ICP光谱仪生产企业准入门槛，形成具有竞争力的企业。从而缩小国产仪器同国外仪器的性能差距，提高国产ICP光谱仪的市场占有率。对ICP光谱仪产业发展具有重要和积极的意义。
项目起草单位钢研纳克技术有限公司研发生产电感耦合等离子体发射光谱仪始于2006年，2009年10月，钢研纳克开发了单道扫描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，钢研纳克推出了 Plasma2000型全谱电感耦合等离子体光谱仪，采用中阶梯光栅光学结构和科研级CCD器实现全谱采集，该仪器是钢研纳克“国家重大科学仪器设备开发专项”成果。
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