温度控制控温0.1度以内
器类型大面积CCD光谱仪
测试范围165nm-950nm
光源类型固态光源
品牌钢研纳克
钢研纳克Plasma 1000 单道扫描ICP光谱仪
1. 光路形式：Czerny-Turner型 单道扫描ICP光谱仪
2. 光室恒温：(30±0.2)℃
3. 光栅类型：离子刻蚀全息平面光栅
4. 分辨率：不大于0.007nm
5. 刻线密度：3600g/mm
6. 高频发生器震荡频率：40.68MHz 功率稳定度：0.1%（长期25℃典型值）
7. 震荡类型：自激式
8. 进样方式：蠕动泵进样 配有多种雾室（旋流雾室、双筒雾室和耐氢氟酸雾室）
9. 雾化器：同心雾化器
10. 重复性：RSD ≤1.0%
11. 稳定性：RSD ≤2.0%（2小时）
12. 冷却气：10-20L/min
13. 气：0-1.5 L/min
14. 载气：0.4-1L/min
15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（长×宽×高）
16. 重量：240公斤
钢研纳克“ICP痕量分析仪器的研制与应用”项目顺利通过验收
2016年4月12日，北京市科学技术会在钢研纳克永丰产业基地主持召开了国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”项目(项目编号2011YQ140147)初步验收会议。
出席会议的包括清华大学金国藩院士、中国分析测试协会张渝英、中科院北京科学仪器研究中心于科岐研究员、北京光学仪器厂骆东淼教授级高工、清华大学赵自然教授、北京科技大学刘杰民教授、北京锐光仪器有限公司周志恒教授及高工、北京化工大学袁洪福教授、首钢冶金研究院郑国经教授级高工。出席会议的有北京市科学技术技术会条件财务处李建玲处长、北京科学仪器装备协作服务中心杨鹏宇副、张静助理、项目主管朱希洪、王郅媛，钢研纳克技术有限公司总贾云海、副总兼项目负责人陈吉文，以及各任务单位的负责人和技术骨干。
本次初步验收会由李建玲处长主持，会议成立了项目初步验收技术组，选举金国藩院士作为组组长。组听取了项目及各承担单位的汇报，审阅了相关资料，进行了现场检查，经质询和讨论，终形成了验收评审意见。
和一致认为项目验收材料齐全、规范，符合验收要求。项目成功开发出具有自主知识产权的ICP全谱光谱仪、ICP质谱仪两种痕量分析仪器整机，实现推广应用;克服了ICP射频源、四较杆射频源、激光烧蚀固体直接进样系统、多位自动进样装置、基于中阶梯光栅和大面积CCD采集的高分辨二维分光系统、碰撞反应池、中阶梯光栅刻划、四较杆等关键部件、关键技术及核心元器件技术和工艺难题;针对国内用户的普遍特点和需求，在仪器中集成了多功能开放性软件、谱线和分析方法数据库，提升国产分析仪器的国际竞争力。项目执行期内共完成了分析方法、应用、对比报告51篇，形成行业标准8项，38项(其中授权19项)，软件著作权4项，发表65篇。项目预期目标全部实现。
在工程化和产业化方面，项目牵头单位已经在永丰建成ICP光谱仪、ICP质谱仪产业基地，将可靠性管理的理论、工具、方法和装备应用于分析仪器开发的全流程，建立了完整的质量管理体系，建设了ICP射频源、激光烧蚀进样系统、ICP全谱光谱仪、ICP质谱仪4条生产线。ICP全谱光谱仪已经获得生产许可证书，产品已经销售至宁夏、浙江、山东、新疆、湖南、河南及国外(伊朗)等地，产品经过安装和调试，均顺利通过验收。
在项目组织管理方面，该项目建立了项目管理和办公室，引进VP项目管理系统对项目进度和财务情况进行监督，各任务单位之间沟通协调效果良好，**了项目的顺利完成。
验收组认为该项目完成了任务书规定的任务、目标和考核指标，一致同意该项目通过验收。
钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数
1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm
2. 谱线范围：165nm~900nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）
3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶体管固态射频发生器，小巧
5. 40.68MHz频率提高信噪比，改善了检出限
6. 自动匹配调节
7. 全组装式炬管，降低了维护成本
8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵，具有快速清洗功能
9. 实验数据稳定性良好：重复性 RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD ≤2.0%（大于3小时）
钢研纳克Plasma 1500 固态光源单道扫描ICP
进样系统技术参数：
炬管方向：垂直放置
炬管：可拆卸式或一体式炬管，中心管可选0.8mm、1.5mm、2.0mm（石英或陶瓷）
雾化器：同心雾化器或平行通道雾化器，外径6mm,可选标准雾化器、高盐雾化器、氢氟酸雾化器。
雾室：旋流雾化室，可选配双筒型雾化室和耐HF雾化室。
蠕动泵：4通道12滚轮，转速连续可调
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