青岛电感耦合等离子体质谱 icpms品牌

PlasmaMS 300型电感耦合等离子体质谱仪简称PlasmaMS 300，是钢研纳克技术股份有限公司推出的ICP质谱仪，作为一种精密无机元素分析仪器，它具有以下特点：
1.1.1 进样系统
1) 进样系统应外置, 便于操作、更换和清洗；
2) 采用进口雾化器，雾化效率高,不易堵塞；
3) 进样管路的长度尽可能短, 减少了记忆效应。；
4) 仪器配备系列经过优化的进样系统，可用于**溶剂、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸（HF）等样品的测试；
5) 使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量，**测试性能长期稳定；
6) 4通道12滚轮进口蠕动泵，提升样品导入稳定性和均匀性。
1.1.2 ICP离子源
1) 自激式固态射频发生器，体积小巧，效率高，功率可通过反馈调节，实现较高的稳定性；
2) 自动匹配速度快，保证了点火成功率；
3) 精准控制的三维移动平台，实现了炬管自动定位及自动校准的功能；
4) 快速插拔式气管连接, 方便拆卸；
5) 快速插拔式气管连接, 方便拆卸。
1.1.3 接口单元
1) 保持样品离子的完整性的同时，限度的让所生成的离子通过；
2) 氧化物和二次离子产率尽可能低；
3) 等离子体的二次放电尽可能小
4) 不易堵塞，产生热量尽可能少；
5) 易于拆卸和维护：锥口拆冼过程中，不影响真空系统，*卸真空；
1.1.4 离子传输系统
1) 连续偏转设计的离子光学系统的消除中子和光子的干扰
2) 优异的六较杆离子镜系统优化了离子传输效率，聚集尽可能多的要测定的离子沿同样方向进入四较杆
3) 带动能歧视效应的碰撞反应池技术，有效消除由样品基体或等离子体源引起的多原子离子干扰；
1.1.5 四较杆质量分析系统
1) *的四较杆电源采用了数字直接频率合成(DDS)技术，能够进行自动频率匹配调谐，使得仪器的自动化程度和安全性能有了进一步提高；
2) 内部无连接线、**部进入的无线缆设计，使装配更为方便,增加仪器的一致性和可靠性；
3) 的四较杆尺寸结合全固态四较杆RF发生器, 带来的分辨率和长期稳定性，具有同时记录所有元素谱线的“摄谱”功能，并能存储和检索；
4) 结合六较杆离子镜系统和的真空系统, 带来的灵敏度；
1.1.6 离子和数据采集系统
1) 采用不连续打拿较电子倍增器；
2) 即插即用设计, 没有任何连接线, 方便更换；
3) 软件硬件控制器过荷保护
4) 三种数据采集模式，全质量连续扫描； 跳峰扫描；两者结合的扫描。
1.1.7 真空系统
1) 自主开发了的真空采集控制系统，全自动整机真空保护，保证仪器的正常工作；
2) 先进的缓冲技术，机械泵间断运行，实现了较低的待机功耗；
3) *特的防粉尘、防返油雾设计，有效隔断油气，解决机械泵油气污染问题，确保了仪器的**高真空洁净系统
1.1.8 控制系统
1) 具有包括温度、水流、气压、位置状态监控功能等，上提供仪器保护，延长使用寿命；
2) 使用CAN总线结构, 其*特的编码方式具有的稳定性和抗干扰能力；
3) 利用CAN总线的*特优势, 仪器增加的任何功能均为即插即用模式, 非常方便。
1.1.9 软件系统
1) 仪器测试各参数、自动调谐、三维移动平台、透镜电源等参数灵活设置；
2) 全中文的软件界面，符合中国人的思维习惯，参数监控和方法设置直观快捷；可提供一键式（调谐、测试等）操作的功能；
3) 软件可查看各个部件的实时运行状态以及故障报错，确保仪器的安全运行

**SMAMS 300 在不**业的应用与干扰
地质样品通常难以消解。相比之下，激光消融几乎不需要任何样品制备，仅仅 需要将样品切至适合激光消融池的大小。
在这一领域中，样品多种多样，质谱分布范围很广，因此此类应用为广泛和复杂。在单 个矿物或样品(minerals or phases)中，可能既需要分析痕量金属含量，又需要进行同位 素信息扫描。
由于在这类样品中存在着大量的稀土元素(rare earth elements)，因此在这类地质样品中 常见的干扰就是氧化物干扰和双电荷干扰。
应用领域:
岩石稀土分析和岩石消解 激光消融分析矿物
同位素比例研究地球及外来物质的原始和进化 水沉积物和地下水

PlasmaMS 300仪器组成与工作原理
ICP-MS全称电感耦合等离子体质谱（Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)主要包括以下功能模块：进样系统、ICP离子源、接口单元、离子传输系统、四级杆质量分析系统、离子及和数据采集系统、真空系统、整机控制系统与软件系统。
图2.1 PlasmaMS 300型结构示意图
其工作原理是：待测样品通过进样系统进入离子源部分，在被 ICP射频电源离子化后，在接口及离子传输系统中通过聚焦、消除干扰后进入四较杆质量分析器，在其中离子将按照质荷比（m/z）大小被分开，经过聚焦后，达到器。器将不同质荷比的离子流通过接收、测量及数据处理转换成电信号经放大、处理后得到分析结果。
2.2 主机部件
仪器主机的主要部件有：进样系统、ICP离子源、接口单元、离子传输系统、四级杆质量分析系统、离子及和数据采集系统、真空系统、整机控制系统与软件系统。
进样系统包含蠕动泵、进样管排样、雾化器、雾室、玻璃弯管、炬管；
ICP离子源包括包含功放箱、匹配箱；
接口单元包括接口、水腔、提取透镜；
离子传输系统包括π透镜、碰撞反应池、透镜组；
四级杆质量分析系统包括四级杆、馈入件；
离子及数据采集系统主要包括电子倍增器、电子倍增器支架；
真空系统包括机械泵、2个分子泵、真空腔体、潘宁规；
整机控制系统包含各种控制电路模块。
2.3 辅助装置
智能温控冷却循环水箱是重要的辅助装置，它冷却接口、线圈、离子源和分子泵。
稳压电源是能为负载提供稳定交流电的电子装置。当电网电压或负载出现瞬间波动时，稳压电源会以10ms~30ms的响应速度对电压幅值进行补偿，使其稳定在±2%以内。

PlasmaMS的质谱干扰消除办法
PlasmaMS 300的另一类主要干扰是质谱干扰。
1.多原子干扰(Polyatomic) – 与目标同位素原子质量重合的多原子离子，所带来的干扰
2. 同量异位素干扰(Isobaric) –与目标同位素原子具有相同质量数的原子带来的干扰(目标 原子与干扰原子的质子数和中子数都不同，但(质子数+中子数)相同)；也包括质荷比相等 的不同元素离子形成的干扰。
多原子离子： 包括氩化合物、氢化物、氧化物
氩化合物的产率可以通过性能选项来降低：例如使用等离子体屏蔽环(PlasmaScreen)和 碰撞反应池(CCT, Collision Cell Technology)。
这些干扰有时是气体引起的：例如进样时候引入的空气、用来维持等离子体燃烧的氩气。 还有的来自于样品基体中的阴离子或者阳离子。
氧化物的产率可以通过调谐来降低：炬管和雾化器的位置、气体流速对氧化物产率的影响 是的。基体引起的干扰很多都是氧化物，尤其是样品中的主量元素，会在距离主量元 素16个amu的位置产生一个氧化物的干扰峰。这样的干扰普遍存在，并且随着基体氧化 物沸点的升高，这样的干扰更加严重。我们可以使用空白扣减来降低这样的干扰。
同量异位素干扰: 这种干扰指的是，存在着和目标元素原子质量相同的干扰离子。要消除同量异位素干扰， 只能是尽可能选择该元素的其它同位素来回避这样的干扰。
还有一类特殊的同质量干扰，如果干扰元素的二级电离电位(Isobaric interference)低于了 氩原子的一级电离电位(15.8ev)，这样的元素原子在ICP中会形成双电荷离子。对于双电 荷离子的干扰，很难消除，但有的时候可以通过调谐来将干扰降低一些。如果可以的话， 通过更换更合适的同位素来解决。
如果用户的目标元素是单同位素元素时，例如As，此时就不能采用更换同位素的办法来 避免干扰。As元素是比较典型的单同位素元素，同时面临着普遍的多原子干扰(40Ar 35Cl)，一旦有氯元素的存在，就存在40Ar 35Cl的干扰。

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