测试范围2-255amu
功率600-1600w连续可调
测量精度0.5-1.1amu连续可调
型号PlasmaMS 300
矩管材质石英
ICP-MS分析流程的建立
对于一种新基体的样品来说，常规的分析路径如下：
1. 酸化或溶解样品 样品一般需要行酸化溶解使目标元素溶解在液体中.
2. 选择目标分析物和目标同位素 根据浓度范围来选择分析物和同位素。
3. 行扫描以便识别出存在的干扰
可以行半定量扫描，可以通过半定量扫描判断大致存在哪些元素以及各个元素 的大致浓度范围。
4. 选择数据的采集模式以及校正曲线的类型 一般如果使用连续流的数据采集模式，会使用外标定量法。也有其他的数据评估方
法可以使用。
5. 选择合适的内标元素 内标元素的使用可以校正由于时间或基体抑制效应引起的信号漂移。
6. 能进行基体匹配
将标样的基体匹配到和您的样品基体完全一致，可以将两者之间的差异减小到小， 并且有助于得到更为准确的结果数据。
7. 进行质量控制校正（QC check）
在分析过程中插入另一来源的标样(2nd Source Standard)或者有证标准物质 (Certified Reference Material)，确保数据的完整性。
钢研纳克PlasmaMS 300产品的主要特点
高**的分析能力和的稳定性
性能稳定的ICP离子源
非常人性化的操作性能
具有性的技术
产品经过了可靠性验证
PlasmaMS 300样品引入主要包括3个步骤:
1. 样品传送delivery –使用蠕动泵将样品传送到雾化器处，雾化器处引入雾化气(雾化器也 称载气，为高速氩气气流)，雾化气撞击液体将其吹散成气溶胶。蠕动泵和雾化器保证了 液体样品的连续进样。
2. 液体样品转化为气溶胶–气溶胶是雾化器产生的，使用广泛的雾化器是同心雾化器。 随后，气溶胶被雾室混匀并过滤。雾室的体积比较小，因此可以进行快速冲洗，降低记忆 效应。可以使用石英材质的雾室或者惰性材料(polypropylene，聚丙烯)的雾室。
3. 气溶胶引入到等离子体 – 随着雾化气的推动力作用，样品气溶胶可以从雾室被传送到 炬管处。雾化器和雾室是直接连接到ICP炬管上的，小程度缩短了样品传输的距离。
一个四通道的微型蠕动泵(peristaltic mini-pump)将液体样品传送到雾化器处，在雾化器处 引入高速氩气气流(雾化气，也称载气)，将液体样品转化成气溶胶。对于每个装到仪器上 的雾化器来说，可以手动优化一下蠕动泵转速。
质谱干扰主要分为以下两类：
1.多原子干扰(Polyatomic) – 与目标同位素原子质量重合的多原子离子，所带来的干扰
解决办法：1、参数调谐：载气、采样深度等
2、使用碰撞反应池技术
2. 同量异位素干扰(Isobaric) –与目标同位素原子具有相同质量数的原子带来的干扰(目标 原子与干扰原子的质子数和中子数都不同，但(质子数+中子数)相同)；也包括质荷比相等 的不同元素离子形成的干扰。
解决办法：选择合适的同位素
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