国产电感耦合等离子体质谱性能比较 四级杆电感耦合等离子质谱

PlasmaMS的质谱干扰消除办法
PlasmaMS 300的另一类主要干扰是质谱干扰。
1.多原子干扰(Polyatomic) – 与目标同位素原子质量重合的多原子离子，所带来的干扰
2. 同量异位素干扰(Isobaric) –与目标同位素原子具有相同质量数的原子带来的干扰(目标 原子与干扰原子的质子数和中子数都不同，但(质子数+中子数)相同)；也包括质荷比相等 的不同元素离子形成的干扰。
多原子离子： 包括氩化合物、氢化物、氧化物
氩化合物的产率可以通过性能选项来降低：例如使用等离子体屏蔽环(PlasmaScreen)和 碰撞反应池(CCT, Collision Cell Technology)。
这些干扰有时是气体引起的：例如进样时候引入的空气、用来维持等离子体燃烧的氩气。 还有的来自于样品基体中的阴离子或者阳离子。
氧化物的产率可以通过调谐来降低：炬管和雾化器的位置、气体流速对氧化物产率的影响 是的。基体引起的干扰很多都是氧化物，尤其是样品中的主量元素，会在距离主量元 素16个amu的位置产生一个氧化物的干扰峰。这样的干扰普遍存在，并且随着基体氧化 物沸点的升高，这样的干扰更加严重。我们可以使用空白扣减来降低这样的干扰。
同量异位素干扰: 这种干扰指的是，存在着和目标元素原子质量相同的干扰离子。要消除同量异位素干扰， 只能是尽可能选择该元素的其它同位素来回避这样的干扰。
还有一类特殊的同质量干扰，如果干扰元素的二级电离电位(Isobaric interference)低于了 氩原子的一级电离电位(15.8ev)，这样的元素原子在ICP中会形成双电荷离子。对于双电 荷离子的干扰，很难消除，但有的时候可以通过调谐来将干扰降低一些。如果可以的话， 通过更换更合适的同位素来解决。
如果用户的目标元素是单同位素元素时，例如As，此时就不能采用更换同位素的办法来 避免干扰。As元素是比较典型的单同位素元素，同时面临着普遍的多原子干扰(40Ar 35Cl)，一旦有氯元素的存在，就存在40Ar 35Cl的干扰。

公司主要技术和产品的创新历程
公司是我国金属材料领域的**者。基于原钢研院自 1954 年以来在金 属材料和冶金工艺分析测试领域的技术积淀，公司于 2001 年成立，已逐步搭建 起强大的技术创新体系。公司自成立以来一直面向国家重大工程及重点项目需 求，不断开发新技术、新标准、新产品，屡次解决国家及行业在金属技术及 仪器装备领域的瓶颈，不断实现重大技术突破，解决“卡脖子”问题，**国内金 属和分析仪器的技术进步与创新。 凭借完善的创新体系和持续创新能力，公司目前拥有了在金属材料领域 的、表征、评价和认证服务能力，同时开发出一系列具有完全自主知识 产权和**性的仪器产品。
公司分析仪器可分为原子光谱、X 射线荧光光谱、气体元素分析、质谱、 力学、无损探伤及环境监测七大类，产品类型丰富，目前共有 40 多种产品型号， 覆盖金属材料、环境监测、食品药品等应用领域。

PlasmMS 300在生物医药行业的应用
一般说来，生物样品(例如血样)都含有高基体。分析这些类型的样品需要对进样系统和锥 口部分(ft end)进行高频率的维护。根据需要的限，通常上机前都需要对这些样品进 行基体匹配和稀释。
生物样品中一些特殊元素的干扰，例如：
ArC 干扰 52Cr
ArAr 干扰 80Se & 78Se ArCl 干扰 75As
ArNa 干扰 63Cu
这些干扰可通过使用 CCT 消除，其能维持高功率，将难电离元素(As 和 Se 等)进行电离， 从而解决高生物基体的问题。
应用领域
体液中的全元素分析，如血液、尿液、血清 生物医学健康研究利用同位素追踪评估机体功能和身体受污染程度。

PlasmaMS 300型质谱仪将ICP的高温电离特性与四较杆质谱计的灵敏快速扫描的优点相结合而形成一种新型的有力的元素分析、同位素分析和形态分析技术。该技术具有检出限低、动态线性范围宽、干扰少、分析精度高、速度快、可进行多元素同时测定等优异的分析性能，已从初在地质科学研究的应用迅速发展到环境保护、半导体、生物、医学、冶金、石油、核材料分析等领域。

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